Jika laser ultraviolet vakum dapat difokuskan ke tempat sinar kecil, itu dapat digunakan untuk mempelajari struktur bahan mesoskopi, dan membuat nano-objek dengan presisi yang lebih baik.
Untuk mencapai tujuan ini, para ilmuwan Cina telah menemukan sistem laser VUV 177-nanometer yang dapat mencapai fokus sub-mikron pada panjang fokus panjang.
Hasil penelitian yang diterbitkan dalam "Light Science & Applications" (LightScience&Applications) menunjukkan bahwa para peneliti telah mengembangkan sistem mikroskop emisi fotoelektrik pemindaian laser 177nmV5V menggunakan pelat strip bebas aberasi bulat, yang panjang fokusnya panjang (——45mm) Bagian bawah memiliki titik fokus<>
Dibandingkan dengan sumber laser DUV dengan resolusi spasial yang saat ini digunakan untuk ARPES, sumber laser 177nmVUV dapat membantu pengukuran ARPES untuk menutupi ruang momentum yang lebih besar dan memiliki resolusi energi yang lebih baik.
Sistem laser VUV memiliki panjang fokus ultra-panjang (-45mm), resolusi spasial sub-mikron (-760nm), resolusi energi ultra-tinggi (-0,3meV) dan kecerahan ultra-tinggi (-355MWm-2). Ini dapat langsung diterapkan pada instrumen penelitian ilmiah seperti mikroskop elektron emisi fotoelektrik (PEEM), spektrometer fotoelekron yang diselesaikan sudut (ARPES), laser ultraviolet dalam spektrometer Raman.
Saat ini, sistem telah mengungkapkan karakteristik pita energi halus dari berbagai bahan kuantum baru, seperti superkonduktor topologi quasi-satu dimensi TaSe3, insulator topologi magnetik (MnBi2Te4) (Bi2Te3) m keluarga dan sebagainya.